北京大学电子学院验收1吋快速退火炉

2024年6月23日，一场设备验收仪式在北京大学电子学院举行，1吋快速退火炉在此成功通过并得到了该校的正式验收。

北京大学是有名的高等学府，此次采购的退火炉是用于半导体材料快速退火科研，对于设备的验收有着严格的标准和要求。交付的1吋快速退火炉，凭借其优秀的温度均匀性，控温精度以及快速升降温的速率等特点，得到了学校的高度认可，达到了学校对学术研究的需要。

快速退火炉RTP，是采用近红外辐射加热及冷壁技术，可实现实验样品的可控快速升温和降温，完成特定条件下的热处理工艺，同时可通过定制观察窗口，方便进行功能扩展，适合高校、科研院所、企业实验室等使用。

快速退火炉广泛用于强诱导体薄膜的结晶化退火、注入离子后的扩散退火、半导体材料的烧结与退火条件研究、玻璃基板的均热退火、热循环试验与热冲击试验、升温脱离试验与触媒试验等。