RTP快速退火炉
RTP快速退火炉系列产品，有自立式和桌面式两种，采用红外辐射加热及冷壁技术，可实现对1-12吋实验材料的快速升温和降温，同时搭配高精度的温度控制系统，可达到需要的的温场均匀性。
产品详情
快速退火炉产品介绍
RTP快速退火炉系列产品，采用红外辐射加热及冷壁技术，可实现对实验材料的快速升温和降温，同时搭配超高精度的温度控制系统，可达到极佳的温场均匀性，对材料的快速热处理、快速退火、快速热氧化、快速热氮化及金属合金化等研究和生产工作起到重要作用。广泛应用于高校、科研院所、第三方检测机构、半导体制造企业等。
快速退火炉应用功能
快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN) ……
| 薄膜沉积后退火 | 合金化退火 | 低介电材料热处理 | 热疲劳循环测试 |
| 离子注入退火 | 热扩散、致密化 | 化合物半导体退火 | 合金熔点分析 |
| 电极接触退火 | 结晶、烧结 | 多晶硅退火 | 耐热性测试 |
| 去应力退火 | 氧化制程 | 多晶硅退火 | 材料制备 … … |
快速退火炉基片类型
硅片、碳化硅基片、化合物半导体基片、用于LED的GaN/蓝宝石基片、用于太阳能电池的多晶硅基片、石墨和镀碳化硅的石墨基座、玻璃基片、金属、聚合物等。
器件类型
光电芯片、射频芯片、MEMS传感器芯片、功率器件、CMOS芯片、模拟芯片、分立器件、光伏器件、显示器件、存储器芯片、光电子芯片、MEMS芯片的制造等。
快速退火炉应用材料
电子材料、陶瓷与无机材料、金属材料、复合材料 、功能薄膜材料……
快速退火炉定制化应用(创新实验)
原位光学观察、相变测试、原位电学测试、测热膨胀系数……
快速退火炉技术参数
| 设备系列 | RTP-04 | RTP-06 | RTP-08 | RTP-12 |
|---|---|---|---|---|
| 最大样品尺寸(∮) | 100mm | 150mm | 200mm | 300mm |
| 控温范围 | RT~1200℃ | |||
| 最快升温速率 | 150℃/s | 150℃/s | 150℃/s | 150℃/s |
| 最大降温速率 | 1200℃/min | 1200℃/min | 1200℃/min | 1200℃/min |
| 控温精度 | ±0.5℃ | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ |
| 温度均匀性 | ≤1% | ≤1.5% | ≤1.5% | ≤1.5% |
| 气体氛围 | 1-6路可选，转子流量计或MFC控制，量程可定制 | |||
RTP快速退火炉部分应用案例
RTP快速退火炉论文发表
截止2024年5月，已有客户包括华中科技大学、哈尔滨工业大学等知名高校共计30余篇论文引用了RTP快速退火炉系列产品的测试结果。
RTP快速退火炉部分合作客户
中科嘉维
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